真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
觀察窗Φ100mm,含磁力擋板
屏蔽板不銹鋼,便于拆卸清潔、更換
水冷蒸發(fā)電極8根組成4組
金屬蒸發(fā)電源功率3kW
復(fù)合分子泵JTFB-650Z脂潤滑分子泵,抽速650L/s
直聯(lián)高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
氣動高真空插板閥DN150
前級閥/旁路閥DN40
放氣閥φ10 電磁充氣閥
數(shù)顯復(fù)合真空計兩低一高,含規(guī)管
波紋管、真空管道材質(zhì)SUS304不銹鋼
熱蒸鍍是一種金屬表面處理工藝,主要用于提高材料的耐腐蝕性與耐磨性。該工藝通常涉及將金屬(如鋅、鋁或鎳)加熱至蒸發(fā)或熔化狀態(tài),然后通過蒸汽或者氣體的方式,將其沉積在工件的表面。熱蒸鍍的具體過程通常包括以下幾個步驟:
1. **表面準(zhǔn)備**:清潔待處理的金屬工件,去除表面的油污、銹蝕和其他雜質(zhì),以確保良好的附著力。
2. **加熱金屬源**:將選定的金屬材料加熱至其蒸發(fā)溫度或熔融狀態(tài)。
3. **蒸發(fā)或噴涂**:通過物理方法(如蒸發(fā)、噴涂等)將金屬蒸氣均勻沉積在冷卻的工件表面,形成一層致密覆蓋層。
4. **冷卻和固化**:讓沉積層在工件表面冷卻和固化,形成牢固的保護層。
熱蒸鍍通常應(yīng)用于防腐蝕、抗氧化、增加美觀等領(lǐng)域,常見于汽車零部件、家電、建筑材料等。與其他表面處理方法相比,熱蒸鍍具有較好的均勻性、附著力和耐久性。
電阻蒸鍍機是一種常用于薄膜制作的設(shè)備,尤其在半導(dǎo)體、光電和光學(xué)材料的制造中廣泛應(yīng)用。其主要特點包括:
1. **高真空環(huán)境**:電阻蒸鍍機通常在高真空條件下工作,這有助于控制薄膜的質(zhì)量,減少氣體污染。
2. **均勻性**:由于蒸發(fā)源的設(shè)計和定位,電阻蒸鍍可以實現(xiàn)良好的膜厚均勻性,適合對膜層均勻性要求較高的應(yīng)用。
3. **可控性**:通過調(diào)節(jié)電流和蒸發(fā)源與基板之間的距離,可以控制薄膜的生長速率和厚度,便于實現(xiàn)膜層的特定要求。
4. **適用材料廣泛**:電阻蒸鍍機能夠蒸發(fā)多種金屬和合金,如鋁、銅、鎳等,也可用于某些氧化物和其他材料的沉積。
5. **易于操作**:操作相對簡單,用戶可以通過計算機界面或控制面板快速設(shè)置和調(diào)整參數(shù)。
6. **可擴展性**:許多電阻蒸鍍機設(shè)計上支持多種蒸發(fā)源,可以根據(jù)生產(chǎn)需求進行靈活配置,滿足不同材料和工藝要求。
7. **經(jīng)濟效益**:相比其他蒸鍍技術(shù)(如濺射或化學(xué)氣相沉積),電阻蒸鍍機的設(shè)備和運行成本相對較低,適合大規(guī)模生產(chǎn)。
8. **適應(yīng)性強**:不僅適用于實驗室研究,還可用于工業(yè)生產(chǎn),適用于基材(如玻璃、塑料、硅片等)的薄膜沉積。
綜上所述,電阻蒸鍍機因其、靈活和經(jīng)濟性,成為許多領(lǐng)域中常用的薄膜沉積設(shè)備。

蒸發(fā)舟是用于蒸發(fā)物質(zhì)的一種設(shè)備,廣泛應(yīng)用于薄膜制備、材料合成和真空蒸發(fā)等領(lǐng)域。在蒸發(fā)過程中,蒸發(fā)舟在高溫下加熱,使得固體顆粒轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),從而形成薄膜或其他材料。
蒸發(fā)舟蒸發(fā)顆粒的特點主要包括以下幾個方面:
1. **粒度均勻性**:蒸發(fā)舟通常能夠提供比較均勻的加熱,從而使得蒸發(fā)出來的顆粒在粒度上保持一致,有助于提高材料的性能。
2. **高純度**:在真空條件下進行蒸發(fā),能夠有效減少雜質(zhì)的引入,從而提高所得到的薄膜或顆粒的純度。
3. **可控性強**:通過調(diào)整溫度、壓力和蒸發(fā)時間,可以控制顆粒的蒸發(fā)速率和終的結(jié)構(gòu)特性。
4. **形成薄膜的能力**:蒸發(fā)過程中,顆粒在冷卻后會凝結(jié)形成薄膜,具有良好的附著性和均勻性。
5. **適用范圍廣**:可適用于多種材料,例如金屬、氧化物、氮化物等,應(yīng)用于電子器件、光學(xué)涂層等領(lǐng)域。
6. **重現(xiàn)性好**:蒸發(fā)過程中條件可重復(fù),且易于實現(xiàn)規(guī)?;a(chǎn),能夠滿足工業(yè)應(yīng)用的需求。
綜上所述,蒸發(fā)舟蒸發(fā)顆粒具備均勻性、高純度、可控性強及適用范圍廣等優(yōu)點,使其在材料科學(xué)和工程領(lǐng)域中具有重要的應(yīng)用價值。

熱蒸發(fā)手套箱一體機是一種用于材料制備和表面處理的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、光電器件等領(lǐng)域。其特點包括:
1. **一體化設(shè)計**:將熱蒸發(fā)設(shè)備與手套箱結(jié)合為一體,有效減少了樣品在轉(zhuǎn)移過程中的污染風(fēng)險。
2. **高純度環(huán)境**:手套箱內(nèi)部通??删S持在低濕度和惰性氣體氛圍(如氮氣或氬氣),有助于防止樣品氧化和水分侵入。
3. **控制**:設(shè)備通常配備溫度、壓力和蒸發(fā)速率等多種參數(shù)的實時監(jiān)控和調(diào)節(jié)功能,以確保材料沉積的性。
4. **易于操作**:手套箱設(shè)計便于操作人員進行樣品的準(zhǔn)備、放置和觀察,操作方便且安全。
5. **多功能性**:除了熱蒸發(fā)功能,部分設(shè)備還具備其他處理功能,如光刻、刻蝕等,提升了實驗的靈活性。
6. **樣品多樣性**:能夠支持多種材料的蒸發(fā)沉積,包括金屬、氧化物、聚合物等,適用范圍廣。
7. **提高實驗效率**:集成化設(shè)計減少了樣品處理時間,提高了實驗的整體效率。
8. **低污染風(fēng)險**:由于手套的封閉性,有效避免了外部污染源對樣品的影響,保證實驗結(jié)果的可靠性。
這些特點使得熱蒸發(fā)手套箱一體機在高精度材料研究和開發(fā)中成為一個重要的工具。

束源爐是一種用于核聚變研究和實驗的設(shè)備,其主要特點包括:
1. **高溫高壓環(huán)境**:束源爐能夠創(chuàng)造極高的溫度和壓力,以促進核聚變反應(yīng)的發(fā)生。
2. **等離子體控制**:通過強磁場或其他手段,束源爐能夠有效控制和維持等離子體的穩(wěn)定性,這是實現(xiàn)聚變的關(guān)鍵。
3. **粒子束注入**:束源爐通常使用高速粒子束注入技術(shù),將粒子直接注入等離子體中,以提高反應(yīng)的效率以及能量的密度。
4. **實驗靈活性**:束源爐的設(shè)計允許對不同的聚變?nèi)剂希ㄈ?、氚等)進行實驗,這為研究聚變反應(yīng)提供了靈活性。
5. **能量輸出**:如果成功實現(xiàn)聚變反應(yīng),束源爐有潛力成為一種的能量來源,對未來的能源解決方案具有重要意義。
6. **研究應(yīng)用**:束源爐不僅用于基礎(chǔ)科學(xué)研究,還可應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)及核能開發(fā)等多個領(lǐng)域。
總體而言,束源爐是一種的科學(xué)儀器,為核聚變技術(shù)的發(fā)展提供了重要的實驗平臺。
電阻蒸鍍機是一種廣泛應(yīng)用于薄膜沉積的設(shè)備,主要適用于以下幾個領(lǐng)域:
1. **半導(dǎo)體制造**:用于沉積金屬薄膜,如鋁、銅等,用于集成電路和其他電子元器件的生產(chǎn)。
2. **光電材料**:在太陽能電池、顯示器和LED等領(lǐng)域,電阻蒸鍍機可以用于沉積透明導(dǎo)電氧化物(如ITO)以及其他功能性薄膜。
3. **光學(xué)薄膜**:用于制造光學(xué)涂層,如反射鏡、濾光片和抗反射涂層等。
4. **裝飾性涂層**:在珠寶、手表以及消費電子產(chǎn)品中,用于涂覆金屬層,以提高外觀和耐腐蝕性能。
5. **傳感器和電極**:在傳感器和電極的制作中,電阻蒸鍍能夠提供高均勻性和良好的附著性。
電阻蒸鍍機因其優(yōu)良的沉積質(zhì)量、較高的均勻性和對薄膜厚度的控制能力,在這些領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。
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